Harrick基本型等離子清洗機

等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。

基本型等離子清洗機廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。

基本型等離子清洗機應用：

1. 高分子材料表面修飾。

2. 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

3. 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。

4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。

5. 清洗半導體元件、印刷線路板。

6. 清洗生物芯片、微流控芯片。

7. 清洗沉積凝膠的基片。

8. 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。

9. 牙科材料、人造移植物、醫療器械的消毒和殺菌。

10. 改善粘接光學元件、光纖、生物醫學材料、宇航材料等所用膠水的

粘和力。

基本型等離子清洗機主要特點：

1. 緊湊臺式設備、沒有RF放射、符合CE安全標準。

2. 功率為低、中、高三檔可調。

3. 基本型：

- 清洗腔：長6.5英寸，直徑3英寸,腔蓋可拆卸；

- RF線圈zui大施加功率18W；

- 1/8NPT針孔閥控制氣流及腔體壓力；

- 整機尺寸：8.5英寸H × 10英寸W × 8英寸D；

- 重量：13 lbs；

4. 選配件

- 石英等離子清洗腔；

- 氣體流量混合器；

- 真空泵；

參考客戶：

蘭州大學  鄭州大學 上海交通大學 上海復旦大學 合肥工業大學 成都電子科技大學 北京大學  清華大學

醫工所  蘭州化物所 中科院納米所 等等

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