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        Harrick基本型等離子清洗機

        簡要描述:基本型等離子清洗機采用氣體作為清洗介質,有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵,工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,其清洗程度達到分子級。

        產品型號: PDC-32G-2

        所屬分類:基本型等離子清洗機

        更新時間:2023-02-17

        廠商性質:生產廠家

        詳情介紹

        等離子清洗機采用氣體作為清洗介質,有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵,工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,其清洗程度達到分子級。

        基本型等離子清洗機廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。

        基本型等離子清洗機應用:

        1. 高分子材料表面修飾。

        2. 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

        3. 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。

        4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。

        5. 清洗半導體元件、印刷線路板。

        6. 清洗生物芯片、微流控芯片。

        7. 清洗沉積凝膠的基片。

        8. 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。

        9. 牙科材料、人造移植物、醫療器械的消毒和殺菌。

        10. 改善粘接光學元件、光纖、生物醫學材料、宇航材料等所用膠水的

        粘和力。

        基本型等離子清洗機主要特點:

        1. 緊湊臺式設備、沒有RF放射、符合CE安全標準。

        2. 功率為低、中、高三檔可調。

        3. 基本型:

        - 清洗腔:長6.5英寸,直徑3英寸,腔蓋可拆卸;

        - RF線圈zui大施加功率18W;

        - 1/8NPT針孔閥控制氣流及腔體壓力;

        - 整機尺寸:8.5英寸H × 10英寸W × 8英寸D;

        - 重量:13 lbs;

        4. 選配件

        - 石英等離子清洗腔;

        - 氣體流量混合器;

        - 真空泵;

         

        參考客戶:

        蘭州大學  鄭州大學 上海交通大學 上海復旦大學 合肥工業大學 成都電子科技大學 北京大學  清華大學

        醫工所  蘭州化物所 中科院納米所 等等

        我公司專業銷售Harrick Plasma產品,并提供Harrick Plasma產品的售前售后服務,如您對Harrick Plasma產品感興趣,歡迎前來咨詢!German First-Nano System (HK)Limited

         



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