SWC-3000兆聲晶圓清洗機 兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及先進的兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

兆聲晶圓清洗機： First-Nano 兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及先進的兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。