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        • GSC-1000磁控濺射系統
          GSC-1000磁控濺射系統

          GSC-1000磁控濺射系統概述: 帶有水冷或者加熱(高可加熱到700度)功能,大到6“旋轉平臺,大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

          更新時間:2019-01-15型號:GSC-1000瀏覽量:883
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