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        產品中心

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        • 202310-25
          Harrick等離子清洗機具有清洗速度快的特點

          Harrick等離子清洗機具有清洗速度快、清洗效果好、操作簡便等特點。它可以清洗多種材料的表面,包括玻璃、金屬和半導體等。它廣泛應用于實驗室研究和制造工藝中,如光學和光子學器件制備、表面處理和薄膜沉積等領域。Harrick等離子清洗機的常見...

        • 20239-25
          勻膠旋涂儀的操作使用步驟

          勻膠旋涂儀的工作原理簡單但有效。通過調節轉盤的轉速、膠刀的壓力和膠液的流量等參數,可以得到所需的涂布薄膜厚度和均勻度。廣泛應用于材料研究、薄膜制備、電子器件制造等領域。選擇合適的勻膠旋涂儀可以提高實驗效果和工作效率:1.根據實驗需求確定需要...

        • 20238-25
          擴展型等離子清洗機具備多重安全保護措施

          擴展型等離子清洗機通過不斷地生成和消失,等離子體能夠在物體表面上形成一層物理化學的清洗層,將物體表面的污染物去除。清洗過程中的副產物主要是水和二氧化碳,這些副產物通過真空系統和氣體凈化系統排出,廣泛的應用領域,涵蓋了電子、光學、材料、生物醫...

        • 20233-24
          熱重分析質譜儀該如何維護保養?

          熱重分析質譜儀(TGA-MS)是一種結合了熱重分析和質譜技術的分析儀器,可用于定量分析樣品隨著溫度變化而發生的重量變化和氣體釋放情況,同時確定氣體成分。主要由兩部分組成:熱重分析儀和質譜儀。在TGA中,樣品在加熱過程中會發生物理或化學變化,...

        • 20232-14
          微波等離子去膠機的相關知識普及

          微波等離子去膠機是在(RIE)反應離子刻蝕機的基礎上簡化改進而來,為小型等離子去膠機,具有體積小,性能優良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業及科研單位、大專院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻...

        • 20231-5
          從基本開始認識等離子清洗機真空泵

          等離子清洗機真空泵是用各種方法在某一封閉空間中產生、改善和維持真空的裝置。真空泵可以定義為:利用機械、物理、化學或物理化學的方法對被抽容器進行抽氣而獲得真空的器件或設備。隨著真空應用的發展,真空泵的種類已發展了很多種,其抽速從每秒零點幾升到...

        • 202211-26
          PDC-002等離子清洗機的優勢體現在哪里?

          PDC-002等離子清洗機由等離子發生器、輸氣管道、等離子噴嘴等部件組成。等離子體發生器產生的高壓高頻能量在噴嘴鋼管內被激活和控制的輝光放電中產生低溫等離子體。等離子體通過壓縮空氣噴射到工件表面。當等離子體遇到待處理物體的表面時,物體會發生...

        • 20229-26
          如何使用熱重分析質譜儀進行熱解氣體產物的成分分析?

          熱重分析質譜儀是指在程序控制溫度下測量待測樣品的質量與溫度變化關系的一種熱分析技術,用來研究材料的熱穩定性和組份。熱重分析在研發和質量控制方面都是比較常用的檢測手段,在實際的材料分析中經常與其他分析方法連用,進行綜合熱分析,全面準確分析材料...

        • 20228-28
          關于氣體流量混合器,三分鐘您就懂

          氣體流量混合器由壓力傳感器、電磁閥組、氣體混合簡和貯氣簡等組成,混合器操作是,先在微機控制器設定2-3中氣體混合的比例值和混合簡與貯氣筒的真空值。按下自動操作按鈕后,首先啟動真空泵抽出簡內空氣,達到設定真空值后即開始自動氣體比例混合的程序操...

        • 20227-25
          PECVD沉積的相關知識點介紹

          PECVD法生長氮化硅薄膜是利用非平衡等離子體的特性,即等離子體分子、原子、離子或激活基團與周圍環境相同,而其中非平衡電子由于電子質量很小,其平均溫度可以比其他粒子大一二個數量級,所以通常條件下,要高溫(300℃-450℃)才能實現許多反應...

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